一、真空鍍膜工藝的定義與核心原理（lǐ）

定義：真空鍍膜是在真空環境下，通過物理或化學方法將（jiāng）材料沉積在基片表麵形成薄膜的技術。其核心優勢在於薄膜均勻性、致密性和附（fù）著（zhe）力遠高於傳統鍍膜方法。

核心原理：
在真空環境中（通常氣壓低於 10⁻³ Pa），材料原子 / 分子的平均自由程增大，可避免與氣體分子碰撞導致的散（sàn）射，從而精準沉積到（dào）基片表麵。根據沉積機製（zhì），主要（yào）分為兩大類：

物理氣相沉積：通（tōng）過物（wù）理手段（duàn）（如加熱、濺射）使材料氣化，再冷凝（níng）沉（chén）積。

化學氣相沉積：通過氣態反應物在（zài）基片表麵發（fā）生化學反應，生成固態產物（wù）沉積。

二、真空鍍膜的典型應用領域

光學領域

增透膜（減少鏡片反光）、高反膜（激光腔鏡）、濾光膜（相機濾鏡）。

例：相機鏡頭表麵的多層鍍膜可提高透光率，減少眩光。

電子與半導體

芯片電極（濺射沉積鋁 / 銅膜）、絕緣層（PECVD 沉積 SiO₂）、太陽能（néng）電池電（diàn）極（蒸鍍銀漿）。

例：矽片上沉積納米級（jí）的柵（shān）極氧（yǎng）化層（厚度僅幾納米）。

機械與（yǔ）功能塗層

刀具塗層（TiN、TiAlN，提高硬度和耐磨性（xìng））、汽車發動機耐磨塗層。

例：數控刀具表麵的金色 TiN 塗層可使壽命延長 3-5 倍（bèi）。

裝飾與環保

手表（biǎo）、首飾的仿金鍍層（濺射沉積氮化鈦）、建築玻（bō）璃的低輻射（Low-E）膜。

例：建築玻（bō）璃鍍上多層金屬氧化物膜，可反射（shè）紅外光，降低空調能耗。

新能源領域

鋰離子電池電極薄膜（磁控濺射沉積鋰鈷氧化（huà）物）、氫燃料電池催化層。

三、真空鍍膜工藝的優勢（shì）與流（liú）程

優勢

環保性：無需溶劑，減（jiǎn）少化學汙染（對比電鍍工藝）。

高精度：膜厚可（kě）控製在納米級（如 10nm 以下），適（shì）合微電子（zǐ）器件。

材料兼容性廣：可在金屬、陶瓷、塑料、玻璃等基（jī）片（piàn）上鍍膜（mó）。

基本流（liú）程

基片預處（chù）理：清（qīng）洗（去除油汙、氧化物）、拋光，確保表麵潔（jié）淨。

真空（kōng）鍍膜：根據（jù）工藝類型，將材料氣化或通過（guò）化學（xué）反應沉積。

後處理：退火（改善（shàn）膜層應力）、檢測（cè）（膜厚、附著力、成分分析（xī））。